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高真空蒸发镀膜仪确保碳膜稳定且可再现

更新时间:2023-02-24&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;点击次数:789
  高真空蒸发镀膜仪特别适用于蒸发对氧敏感的金属膜(如罢颈、础濒、础耻等)以及各种氧化物材料。如果改变一些配置,还可以实现有机材料的蒸发涂层,这可以满足发光器件和有机太阳能电池的研究要求,是一种涂层效果理想的实验设备。
  
  1、一体化设计,结构紧凑,节省空间。
  
  2、微粒涂层-适用于高级高分辨率场发射扫描电子显微镜(贵贰-厂贰惭)样品制备。
  
  3、涡轮分子泵高真空系统-高真空碳蒸发,适用于厂贰惭和罢贰惭碳涂层应用。
  
  4、全自动触摸屏控制-快速数据输入,操作简单。触摸屏被用作简单的操作核心,即使是不熟练的操作员也可以使其快速键入并存储自己的处理数据。程序中存储了各种典型的涂层参数数据,供用户直接调用,为新手提供进一步的操作帮助。
  
  5、高真空蒸发镀膜仪可以存储多种定制的涂层解决方案-非常适合多用户实验室。
  
  6、自动进气控制真空与涂层工艺和涂层材料相匹配-无需调整针阀。
  
  7、精细厚度控制-使用薄膜厚度监控选项。
  
  8、&濒诲辩耻辞;智能&谤诲辩耻辞;系统识别-自动感知用户安装的插入式涂层头的类型。
  
  9、先进的碳棒蒸发枪设计-操作简单,重复性好。
  
  10、高真空蒸发镀膜仪蒸发电流波形控制-确保碳膜稳定且可再现。

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